GRISH多晶金剛石研磨液是由多晶金剛石微粉，配合水、油等液體配制而成的研磨液，可最大限度的提高切削力和拋光效率。產品去除率高、研磨速率穩定，拋光表面一致性好。根據研磨材質和客戶需求不同，我們還可以提供專門定制的產品和研磨工藝。
GRISH金剛石研磨液包括單晶金剛石（MD）和高自銳金剛石（RCD）系列，適用于不同的應用領域。配方多樣化，對應不同的研磨拋光過程和工件，適用性強。產品分散性好、粒度分布均勻、規格齊全、質量穩定。有水基和油基兩種，廣泛用于硬材料的研磨和拋光。
CMP拋光液是針對不同研磨材料的特性進行獨特的配方設計，拋光過程中，pH值基本保持不變，從而保證拋光速率的穩定，并節約拋光時間。廣泛用于多種材料納米級的化學機械拋光。如：藍寶石材料、硅片、不銹鋼、鋁鎂合金、化合物晶體等的拋光加工。
GRISH氧化硅拋光液是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點
GRISH納米金剛石研磨液（又稱拋光液，鉆石研磨液）包括聚晶、單晶和納米3種不同類型的拋光液。金剛石拋光液由金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成，配方多樣化，對應不同的研拋過程和工件，適用性強。產品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質量穩定，廣泛用于硬質材料的研磨和拋光。
我公司針對化合物半導體有對應的拋光工藝及耗材，包含碳化硅、氮化鋁、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦等，同時還承接各類代加工業務。
GRISH CO/AO/SC系列拋光液，是以微米或亞微米級氧化鈰、氧化鋁和碳化硅為磨料的系列拋光液。該系列產品能滿足高精密光學儀器、微晶玻璃、磁頭、化合物晶體、陶瓷、光纖連接器、硬質合金等方面的精密拋光要求。